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• 高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
  

  高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料（強電介質(zhì)層、貴金屬、磁性膜等）的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設(shè)備。

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  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  • • 有磁場ICP（ISM）方式-可產(chǎn)生低圧?高密度plasma、為不揮發(fā)性材料加工的專用設(shè)備。
    

    • 可提供對應從常溫到高溫（400ºC）的層積膜整體刻蝕、硬掩膜去除的刻蝕解決方案。

    • 通過從腔體到排氣line、DRP為止的均勻加熱來防止沉積物。

    • 該設(shè)備采用可降低養(yǎng)護清洗并抑制partical產(chǎn)生的構(gòu)造和材料及加熱機構(gòu)，是在不揮發(fā)性材料的刻蝕方面擁有豐富經(jīng)驗的量產(chǎn)裝置。

    • 實現(xiàn)了長期的再現(xiàn)性、安定性
    

     

  • 產(chǎn)品應用 / Product application

  •  • FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
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