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電子設備
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570
NLD系列
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570,是搭載了愛發(fā)科獨創(chuàng)的磁性中性線(NLD- Neutral Loop Discharge)等離子源的裝置,此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。
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Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400
Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400
CC-200/400系列
Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發(fā)到量產的設備。
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Load-lock式濺射設備CS-200
Load-lock式濺射設備CS-200
CS-200系列
Load-lock式濺射設備CS-200,是可對應從研究開發(fā)到小規(guī)模量產的濺射設備。
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Multi-chamber型濺射裝置SME-200系列
Multi-chamber型濺射裝置SME-200系列
SME-200系列
SME-200系列是可搭載多個工藝腔體(最大搭載3室的200E,最大5室的200J,及最大搭載7室的200)的Multi-Chamber式濺射設備。
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干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
NE-950系列
對應LED量產專用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發(fā)科獨自開發(fā)的星型電極的干法刻蝕設備。
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對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(NLD- Neutral Loop Discharge)等離子源的量產用干法刻蝕裝置。(此愛發(fā)科獨創(chuàng)的NLD技術設備可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子)
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